Диссертация

Целью работы является аналитический и численный расчет пространственного распределения высокочастотного поля в разрядной камере (включая плазму и слой пространственного заряда) в широком диапазоне плотностей электронов и частот ВЧ поля, поддерживающего плазму, и нескольких типичных конфигураций рабочей камеры и электродов. Объект исследования - емкостной высокочастотный разряд низкого давления. Предмет исследования - его электродинамические характеристики (импеданс и пространственное распределение электромагнитного поля) при произвольном соотношении между характерными размерами разряда и длинами электромагнитных волн, распространяющихся в разряде. Методы исследования – аналитическое и численное (методом конечных элементов) решение уравнений Максвелла для типичных конфигураций рабочей камеры технологических плазмохимических установок. Использовалось приближение холодной плазмы и матричная модель слоя пространственного заряда между плазмой и стенками камеры.