Warning: Undefined property: Dissovet\Models\Dissertation::$performed_in_place2 in /var/www/application/Models/Dissertation.php on line 326
Диссертация

Диссертация

Шулейко Дмитрий Валерьевич

Кандидат наук

Статус диссертации

05.02.2020 
Диплом Кандидат наук
20.01.2020 
Решение о выдаче диплома
20.12.2019 
Положительное заключение АК
18.11.2019 
На рассмотрении в АК
17.10.2019 
Положительная защита
17.09.2019 
Объявление опубликовано
10.09.2019 
Принят к защите
04.09.2019 
Заключение комиссии
03.09.2019 
Документы приняты
ФИО соискателя
Шулейко Дмитрий Валерьевич
Степень на присвоение
Кандидат наук
Приказ о выдаче диплома
№ 131 от 05.02.2020
Дата и время защиты
17.10.2019 17:30
Научный руководитель
Заботнов Станислав Васильевич
Кандидат наук
Оппоненты
Аракелян Сергей Мартиросович
Доктор наук Профессор
Кудряшов Сергей Иванович
Кандидат наук
Кульбачинский Владимир Анатольевич
Доктор наук Профессор
Место выполнения работы
Московский государственный университет имени М.В.Ломоносова, Физический факультет, Кафедра общей физики и молекулярной электроники
Специальность
01.04.10 Физика полупроводников
физико-математические науки
Диссертационный совет
Телефон совета
+7 495 939-18-47

Диссертация посвящена исследованию влияния параметров фемтосекундного лазерного облучения и термического отжига на структурные, оптические и электрофизические свойства пленок аморфного гидрогенизированного кремния (a-Si:H), а также сверхрешеток на основе нестехиометрических слоев оксида (SiOx) и нитрида (SiNх) кремния. Продемонстрирована возможность управления морфологией и ориентацией периодического микрорельефа, формируемого фемтосекундным лазерным излучением на поверхности a-Si:H, за счет изменения количества лазерных импульсов. В объеме обрабатываемой пленки a-Si:H обнаружено формирование нанокристаллов полиморфных модификаций Si-III и Si-XII, демонстрирующих анизотропию сигнала комбинационного рассеяния света. Установлена взаимосвязь между формированием периодического рельефа на поверхности модифицированной пленки a-Si:H и возникновением анизотропии её проводимости. Обнаружен эффект резистивного переключения в сверхрешетках на основе SiNх, отожженных при 1150 °C, проявляющийся за счет формирования при отжиге кремниевых нанокристаллов в объеме сверхрешетки. Показана корреляция между характерными особенностями спектров и кинетики фотолюминесценции сверхрешеток на основе SiOx и SiNх и формированием в них кремниевых нанокристаллов или аморфных нанокластеров в результате отжига при температурах 1150 и 900 °C, соответственно.

# Название Размер